中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购中标结果公告(1)

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项目名称：中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购

招标项目编号：0722-264JT2007ZB6

招标范围：（1）具有稳定可靠的晶圆厚度补偿系统，可对晶圆进行自调平和真空吸附。 （2）通过计算机软件进行工艺参数的设定、设备的控制等。 （3）最大有效曝光范围：150mm。 （4）具备晶圆正面和背面套刻，可实现双面光刻工艺。

招标机构：中国远东国际招标有限公司

招标人：中国电子科技集团公司第十三研究所

开标时间：2026-08-20 13:00

公示时间：2026-08-31 11:24 - 2026-09-03 23:59

中标结果公告时间：2026-09-07 10:23

中标人：SUSS MicroTec Lithography GmbH

制造商：SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG

制造商国家或地区：德国

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